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ZH5493型射频磁控溅射镀膜装置
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产品型号:
产品名称:
ZH5493型射频磁控溅射镀膜装置
产品报价:
产品特点:
主要由溅射镀膜室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统、射频电源等部分组成。由于磁控溅射能够地控制参数和提高膜层附着力、密度及均匀性,已成为沉积薄膜的重要方法,射频磁控溅射具有沉积速率高,可以溅射任何材料,包括导体、半导体和介质材料等特点。由于在低气压下溅射,因此膜层致密、针孔少、度高。
可开设的实验
  ZH5493型射频磁控溅射镀膜装置 的详细资料:

ZH5493型射频磁控溅射镀膜装置  

  主要由溅射镀膜室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统、射频电源等部分组成。由于磁控溅射能够地控制参数和提高膜层附着力、密度及均匀性,已成为沉积薄膜的重要方法,射频磁控溅射具有沉积速率高,可以溅射任何材料,包括导体、半导体和介质材料等特点。由于在低气压下溅射,因此膜层致密、针孔少、度高。
可开设的实验
1、掌握射频磁控溅射法制膜的基本原理;
2、了解磁控溅射镀膜仪的操作过程及使用范围;
3、磁控溅射法制备金属膜、半导体膜、化合物膜、介质膜等薄膜。
主要参数
1、溅射镀膜室:由不锈钢底与玻璃钟罩组成;有效尺寸:Φ220×H230mm3;
2、溅射镀膜室本底真空:≤1Pa;溅射腔限真空:6×10-1Pa;
3、溅射靶:Φ50mm,溅射靶台和溅射靶可调距离:20~60mm;
4、基片加热温度可控范围:室温~300℃;
5、射频源功率:500W,13.56MHz;
6、气路系统:由两路转子流量计控制(可选配流量计);
7、真空系统:2XZ-4型旋片真空泵,抽气速率:4L/S,单相220V交流电源供电;
8、对过流过压、断路等异常情况进行报警,并执行相应保护措施;
9、供电电源:AC220V,50Hz,整机功率2KW。

 


 

北京中慧天诚有限公司
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