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ZH5502型直流溅射等离子实验装置
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产品名称:
ZH5502型直流溅射等离子实验装置
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产品特点:
本实验采用同轴二溅射结构,在真空室内以沉积材料为阴,加工样品为阳,工作期间两间加直流电压引起放电,放电气体中的离子被加速轰击靶面,溅射粒子沉积在基片表面成膜。
可以完成光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量、金属薄膜的制备等实验。通过这些实验可让实验者理解直流溅射原理,掌握直流溅射薄膜材料的方法。
  ZH5502型直流溅射等离子实验装置 的详细资料:

ZH5502型直流溅射等离子实验装置  

  装置包括可拆卸的溅射腔体、溅射靶台、真空抽气系统、测量系统、进气系统等部分组成。
  本实验采用同轴二溅射结构,在真空室内以沉积材料为阴,加工样品为阳,工作期间两间加直流电压引起放电,放电气体中的离子被加速轰击靶面,溅射粒子沉积在基片表面成膜。
  可以完成光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量、金属薄膜的制备等实验。通过这些实验可让实验者理解直流溅射原理,掌握直流溅射薄膜材料的方法。
主要特点:
1 溅射靶台和溅射靶距离可调节,研究在不同距离时对薄膜溅射的影响;
2 溅射基片可进行加热,加热温度可控,研究基片温度对薄膜溅射的影响;
3 溅射气压、溅射气源流量可调节,研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响;
4 反应腔体采用石英玻璃管,可直观地观察到溅射现象;
5 工作气体可调节换,并可多路气体混合工作。
主要参数及性能:
1、溅射腔体外形尺寸:φ140mm×150mm;
2、溅射靶台:φ70mm×20mm;
3、溅射靶台和溅射靶可调距离:10~50mm;
4、基片加热温度可控范围:室温~80℃;
5、溅射气压可调范围:10Pa~200Pa;
6、溅射电压:0V~1000V连续可调;
7、溅射电流:0~200mA可测;
8、气源流量可控范围:6~60ml/min;25~250ml/min;
9、供电电源:AC220V,50HZ;
10、整机功率:1.5KW。

 


 

北京中慧天诚有限公司
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