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用微波反射光电导衰退测量硅片复合寿命
点击次数:7 更新时间:2026-09-08
微波光电导载流子复合寿命测试仪(测硅片)是按照半导体设备和材料MF1535-0707及GB/T 26068的要求,采用微波反射光电导衰退测量方法,适用于厚度小于1mm的硅片、电池片少数载流子寿命的测量,具有数字显示的测量。
微波反射光电导衰退法用于测量掺杂的抛光N型或P型硅片与载流子复合过程相关的载流子寿命的测量。也可应用于测量切割、研磨、腐蚀硅片的载流子复合寿命。
规格参数:
适用范围:可移动探头,适合测硅片、硅锭、大块状样品
测量范围:0.25μs-10ms
电阻率下限:≥0.5Ω·cm
测量型号:N型或P型单晶或铸造多晶
重复性:5%
测量精度:10%
微波频率:10GHz
光源脉冲:200ns
红外光源:0.904-0.905μm
工作电源:AC 220V,50Hz
功率范围:约40W
工作温度:23±2℃
相对湿度:<65%
读数方式:可选配测试软件或数字示波器读数
测试软件:具有自动保存数据及测试点衰减波形,可进行查询历史数据和导出历史数据等操作。

少子寿命测定仪|微波光电导载流子复合寿命测试仪

型号:ZH11749


 
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